中國自行打造先進晶片製造機台的努力，看來未來數年仍將遠遠落後，這對北京的晶片雄心是壞消息，對艾司摩爾（ASML）、台灣、南韓與日本則是好消息。

• 瑞銀（UBS）分析師表示，中國在未來十年內不會產出可與艾司摩爾尖端 EUV 機台匹敵的可用產品。
• 中國的進展被認為大約相當於艾司摩爾自身在 2004 年的階段，落後約二十年。
• 深圳的中國科學家去年以逆向工程艾司摩爾的設計，打造出一台 EUV 機台原型，知情人士稱這項計畫為中國的「曼哈頓計畫」。
• 目標是完全以中國製造的設備生產先進晶片，並將美國徹底排除在供應鏈之外。
• 華府自 2018 年起便施壓荷蘭阻擋 EUV 對中銷售，拜登時期的規定又在 2022 年擴大了禁令範圍。

展望：中國將持續投入巨資發展自製晶片設備，但仍得仰賴較舊的機台，而台灣、南韓與日本則在先進晶片領域維持領先。