中国自主研制先进芯片制造设备的努力，未来数年看来仍将远远落后，这对北京的芯片雄心是坏消息，对阿斯麦（ASML）、台湾、韩国和日本则是好消息。

• 瑞银分析师表示，未来十年内中国不会造出可与阿斯麦尖端EUV光刻机相抗衡的可用产品。
• 中国的相关努力被判定大致处于阿斯麦自身2004年时的阶段——落后约二十年。
• 深圳的中国科学家去年通过逆向工程阿斯麦的设计，制造出一台EUV光刻机原型机，知情人士称该项目为中国的"曼哈顿计划"。
• 目标是完全用中国制造的设备生产先进芯片，把美国彻底排除在供应链之外。
• 自2018年以来，华盛顿一直推动荷兰阻止向中国出售EUV光刻机，拜登时期的规则在2022年扩大了禁令范围。

展望：中国将继续向国产芯片制造设备大举投入资金，但仍依赖较老旧的设备，而台湾、韩国和日本在先进芯片领域保持领先。